本书讲解了半导体物理与器件的相关知识。主要内容包括:半导体基础原理、空穴、掺杂、PN结的形成,肖特基二极管、发光二极管等常用二极管的原理,BJT、JFET、MOS等常用三极管的原理,运算放大器的原理及应用,以及功率半导体的原理漫谈,最后阐述了半导体未来的发展趋势。
本书共11章。第1章简要介绍了高压功率器件的可能应用,定义了理想功率开关的电特性,并与典型器件的电特性进行了比较。第2章和第3章分析了硅基功率晶闸管和碳化硅基功率晶闸管。第4章讨论了硅门极关断(GTO)晶闸管结构。第5章致力于分析硅基ICBT结构,以提供对比分析的标准。第6章和第7章分析了碳化硅MOSFET和碳化硅IG
全书以“材料生长-器件制备-性能分析”为主线,构建了层层递进的学术逻辑体系。全书内容涵盖氮化镓单晶材料生长及外延、氮化镓二极管器件制备及特性、氮化镓三极管器件、氮化镓异质结探测器、氮化镓-金刚石集成方法及特性、总结与展望。
本书面向半导体显示领域的当前主流技术(液晶显示、有机发光二极管显示和电子纸显示等),系统而深入地讲解与之密切相关的有源矩阵驱动原理、面板周边集成电路工作原理以及模组外围电路的实现方法原理等。本书共分9章。第1章介绍半导体显示电子系统构成及半导体显示电子学范畴等;第2章阐述主要显示器件的工作原理及驱动概要等;第3章介绍有
本研究主要针对纳米压印光刻技术开展专利导航分析,通过技术和产业调研,梳理了技术与产业发展现状及未来趋势,旨在为科技与产业界提供参考。从宏观、中观与微观三个层面,系统分析了全球及中国在纳米压印光刻领域的创新态势、专利布局、关键技术竞争格局以及行业巨头的核心专利技术路线,识别我国在该领域相较于全球领先国家的差距与优势,为未
该书涵盖了以下内容:脉冲静态特性测试、结电容特性测试、动态特性测试的基本原理、动态特性测试栅极驱动单元设计、布局设计与寄生参数优化、双脉冲测试保护设计、动态特性的测量与数据处理、串扰分析与抑制、三相系统的影响,以及拓扑设计注意事项。
极硬半导体衬底磨粒加工原理与关键技术
本书分为5部分:材料,二极管,场效应晶体管(FET),双极晶体管(BJT),光电器件与功率半导体器件。同时,书中还有大量补充材料,以帮助读者拓展学习;书后设有常数、符号表、半导体制造工艺等实用附录。
本书对LED芯片制造及可靠性测试技术进行了全面且系统的深入剖析,旨在为读者提供清晰、详尽的学习和实践指南。书中不仅涵盖了LED芯片制造的基本原理、工艺流程,还深入探讨了可靠性测试的关键技术和方法。具体内容包括LED基本原理、参数与特性,LED材料制备方法与检测技术,AlGaInP黄红光LED外延芯片设计与制造技术,In
本书旨在普及全耗尽绝缘体上硅(FD-SOI)知识,帮助读者理解纳米FD-SOI器件的概念、机理及现实意义,掌握表征和分析技术。本书围绕FD-SOI的基本概念和主要环节展开,共10章。第1章为FD-SOI技术,主要介绍FD-SOI晶圆的制备工艺和关键技术,包括晶圆键合、切割和优化方法;第2章主要介绍耦合效应,包括FD-S